热障涂层TGO层的残余应力分析

来源期刊：稀有金属材料与工程2010年第S1期

论文作者：韩玉君 董允 王志平 丁坤英 林晓娉 任志敏

文章页码：182 - 185

关键词：热障涂层;拉曼荧光光谱;微观热生长残余应力;扩散通道;

摘    要：用HVOF（CoNiCrAlY）+SFPB+APS（8YSZ）制备热障涂层,经1000℃高温氧化2,26,310h后,用EDS和拉曼荧光光谱对涂层进行分析。高温氧化2h,首先生成的是γ-Al2O3,此后,γ-Al2O3向α-Al2O3转化。拉曼荧光光谱检测和理论计算表明,高温氧化过程中,TGO中的微观热生长残余应力先增加后降低,310h高温氧化后微观热生长残余应力比26h高温氧化后的低0.476GPa。SFPB技术使粘结层表层区域产生扩散"通道",高温氧化的瞬态阶段,大量比Al3+半径大的其它离子通过此扩散"通道",抑制了γ→θ→α的相变。最终形成了以α-Al2O3为主相的TGO抗高温氧化层。