硅烷偶联剂KH-550对钾离子筛的表面改性研究
来源期刊:材料导报2011年第S2期
论文作者:商茹 侯进 王莅 袁俊生 王旭升
文章页码:454 - 913
关键词:钾离子筛;硅烷偶联剂;表面改性;
摘 要:采用硅烷偶联剂3-氨丙基三乙氧基硅烷对钾离子筛进行了表面改性,考察了偶联剂用量、反应时间和温度对钾离子筛表面接枝率的影响,并通过扫描电镜对钾离子筛改性前后进行了结构表征。结果表明,3-氨丙基三乙氧基硅烷能够成功地对钾离子筛进行表面改性,最佳改性条件为:偶联剂用量为60%(质量分数),改性温度为110℃,改性时间为5h,在此条件下,改性钾离子筛的接枝率为3.5%。
商茹1,侯进1,2,王莅1,袁俊生2,王旭升1
1. 中国海洋大学海洋化学理论与工程技术教育部重点实验室2. 河北工业大学海水资源利用化工技术教育部工程研究中心
摘 要:采用硅烷偶联剂3-氨丙基三乙氧基硅烷对钾离子筛进行了表面改性,考察了偶联剂用量、反应时间和温度对钾离子筛表面接枝率的影响,并通过扫描电镜对钾离子筛改性前后进行了结构表征。结果表明,3-氨丙基三乙氧基硅烷能够成功地对钾离子筛进行表面改性,最佳改性条件为:偶联剂用量为60%(质量分数),改性温度为110℃,改性时间为5h,在此条件下,改性钾离子筛的接枝率为3.5%。
关键词:钾离子筛;硅烷偶联剂;表面改性;