超低轮廓度电解铜箔添加剂应用研究

来源期刊：中国金属通报2020年第5期

论文作者：徐建平 杨帆 郭立功

文章页码：85 - 86

关键词：明胶;添加剂;铜电沉积;电解铜箔;

摘    要：电解铜箔是电气工艺的重要材料之一,而在加工中电解铜箔时电解液中的添加剂使用往往影响铜箔的质量。对超低轮廓度电解铜箔添加剂应用研究,设计了更好的添加剂使用方法,首先使用氯离子添加剂来帮助铜电沉积工序的进行,在完成沉积后,添加稀土离子来加快阴极极化并且为铜箔表面形成合金镀层,最后添加明胶来提高铜箔的质量。通过实验论证分析,使用改良后的添加剂方法对比传统方法铜箔表面粗糙度更低,且氧化程度更慢,证明研究具有可行性。