脉冲激光镀膜技术在氢化物薄膜制备中的应用
来源期刊：材料导报2012年第S1期
论文作者：万竟平 梁建华
文章页码：126 - 268
关键词：脉冲激光沉积;氢化物;薄膜;应力;
摘 要：分析了脉冲激光沉积(PLD)镀金属薄膜的性能特点。PLD镀膜技术可望实现金属氢化与氢化物一步成膜,且薄膜应力小、缺陷少、晶格尺寸大,能够消除传统方法制备的金属薄膜在氢化过程中因膨胀而引起的膜性能降低,增强薄膜与基体的粘附能力、薄膜的稳定性与固氦能力。PLD技术在氢化物薄膜研制中具有一定的技术优势,有望成为研制氢化物薄膜的重要技术手段。
万竟平，梁建华
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
摘 要：分析了脉冲激光沉积(PLD)镀金属薄膜的性能特点。PLD镀膜技术可望实现金属氢化与氢化物一步成膜,且薄膜应力小、缺陷少、晶格尺寸大,能够消除传统方法制备的金属薄膜在氢化过程中因膨胀而引起的膜性能降低,增强薄膜与基体的粘附能力、薄膜的稳定性与固氦能力。PLD技术在氢化物薄膜研制中具有一定的技术优势,有望成为研制氢化物薄膜的重要技术手段。
关键词：脉冲激光沉积;氢化物;薄膜;应力;
