基片偏压对直流反应磁控溅射CNx薄膜性能的影响
来源期刊：材料保护2007年第8期
论文作者：陈志刚 唐利强 吴燕杰 陈春 刘军
关键词：CNx薄膜; 磁控溅射; 硬质合金; 附着力; 摩擦学性能;
摘 要：采用直流反应磁控溅射方法,在不同偏压条件下,在硬质合金基片(YG8 WC+8%Co)上沉积了氮化碳薄膜,并通过X光电子能谱仪、涂层附着力自动划痕仪和摩擦磨损试验机研究了CNx薄膜与基体的附着力及其摩擦学性能.结果表明,基片偏压对附着力和薄膜的摩擦学性能有一定的影响,在偏压为-100 V时沉积的CNx薄膜摩擦系数较小,具有良好的减摩作用,对硬质合金的附着力最好.
陈志刚1，唐利强2，吴燕杰2，陈春2，刘军2
(1.江苏工业学院,江苏,常州,213100;
2.江苏大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013)
摘要:采用直流反应磁控溅射方法,在不同偏压条件下,在硬质合金基片(YG8 WC+8%Co)上沉积了氮化碳薄膜,并通过X光电子能谱仪、涂层附着力自动划痕仪和摩擦磨损试验机研究了CNx薄膜与基体的附着力及其摩擦学性能.结果表明,基片偏压对附着力和薄膜的摩擦学性能有一定的影响,在偏压为-100 V时沉积的CNx薄膜摩擦系数较小,具有良好的减摩作用,对硬质合金的附着力最好.
关键词:CNx薄膜; 磁控溅射; 硬质合金; 附着力; 摩擦学性能;
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