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绝缘层下电磁线表面发黑原因分析

来源期刊：腐蚀与防护2000年第8期

论文作者：杨喜云何德良陈范才张小华周海晖

关键词：铜; 电磁线; 绝缘膜; 腐蚀; 发黑;

摘要：通过X射线衍射和XPS对电磁线绝缘膜下表面黑膜及模拟腐蚀试样的表面膜进行了分析,测得表面黑膜主要由Cu2O、CuO、CuCO3、Cu(OH)2、Cu的氯化物和硫化物以及钠盐、SiO2等组成.由此对电磁线绝缘膜下表面发黑的原因进行了探讨.

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杨喜云¹，何德良¹，陈范才¹，张小华¹，周海晖¹

(1.湖南大学化学化工学院,长沙,410082)

摘要:通过X射线衍射和XPS对电磁线绝缘膜下表面黑膜及模拟腐蚀试样的表面膜进行了分析,测得表面黑膜主要由Cu2O、CuO、CuCO3、Cu(OH)2、Cu的氯化物和硫化物以及钠盐、SiO2等组成.由此对电磁线绝缘膜下表面发黑的原因进行了探讨.

关键词:铜; 电磁线; 绝缘膜; 腐蚀; 发黑;

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