高性能电子溅射靶的制备
来源期刊：粉末冶金技术2004年第2期
论文作者：褚征军 吴胜文 葛启录
关键词：电子溅射靶; 大尺寸、高性能; 热等静压和热压工艺;
摘 要：大尺寸、高性能电子溅射靶是电子及信息产业不可或缺的材料,电子靶材一直是各国优先发展的高新技术材料.此光盘膜用靶材材料极易在制备过程中碎裂,并且密度越高,裂纹倾向越大.因此,高密度、高纯度、大尺寸是相互矛盾的,难以达到完美的统一.通过选择合适的成分配比、粉原料的预处理以及合理的热压工艺以及热等静压工艺制度,解决了制备过程中易出现裂纹的难题,制备了大尺寸(直径200mm)、高相对密度(大于90%)、高纯度、密度分布均匀和组成相满足使用要求的靶材.经镀膜考核,靶材各项性能指标能够达到镀膜使用要求,与国外同类产品相当.
褚征军1，吴胜文1，葛启录1
(1.安泰科技股份有限公司,北京,100081)
摘要:大尺寸、高性能电子溅射靶是电子及信息产业不可或缺的材料,电子靶材一直是各国优先发展的高新技术材料.此光盘膜用靶材材料极易在制备过程中碎裂,并且密度越高,裂纹倾向越大.因此,高密度、高纯度、大尺寸是相互矛盾的,难以达到完美的统一.通过选择合适的成分配比、粉原料的预处理以及合理的热压工艺以及热等静压工艺制度,解决了制备过程中易出现裂纹的难题,制备了大尺寸(直径200mm)、高相对密度(大于90%)、高纯度、密度分布均匀和组成相满足使用要求的靶材.经镀膜考核,靶材各项性能指标能够达到镀膜使用要求,与国外同类产品相当.
关键词:电子溅射靶; 大尺寸、高性能; 热等静压和热压工艺;
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