具有渐变层半导体DBR的MOCVD外延制备
来源期刊：功能材料与器件学报2006年第3期
论文作者：沈光地 邓军 陈建新 俞波 韩军 廉鹏 李建军 盖红星
关键词：布拉格反射镜; 金属有机化合物气相淀积; 原子力显微镜; AlGaAs;
摘 要：应用金属有机化合物气相淀积(MOCVD)制备了具有渐变层的半导体布拉格反射镜(DBR),分别是抛物线性、线性和突变结构的DBR.三种反射镜结构都设计为8个周期,通过白光反射谱测量突变DBR具有最大反射率.应用原子力显微镜对所制备的DBR表面形貌进行分析.结果表明,相同周期数情况下线性渐变DBR相对于其他两种结构粗糙度最小,具有良好的表面形貌,可以应用于垂直腔面发射激光器的研制.
沈光地1，邓军1，陈建新1，俞波1，韩军1，廉鹏1，李建军1，盖红星1
(1.北京工业大学电控学院光电子技术实验室,北京,100022)
摘要:应用金属有机化合物气相淀积(MOCVD)制备了具有渐变层的半导体布拉格反射镜(DBR),分别是抛物线性、线性和突变结构的DBR.三种反射镜结构都设计为8个周期,通过白光反射谱测量突变DBR具有最大反射率.应用原子力显微镜对所制备的DBR表面形貌进行分析.结果表明,相同周期数情况下线性渐变DBR相对于其他两种结构粗糙度最小,具有良好的表面形貌,可以应用于垂直腔面发射激光器的研制.
关键词:布拉格反射镜; 金属有机化合物气相淀积; 原子力显微镜; AlGaAs;
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