氮化硅层状陶瓷界面性能对力学性能的影响
来源期刊：复合材料学报1999年第2期
论文作者：黄勇 谢志鹏 李金林 蔡胜有
关键词：界面; 桥接; 氮化硅; 氮化硼; 层状复合材料;
摘 要：通过加入Si3N4调节隔离层的性质,研究了Si3N4/BN层状复合材料在不同界面结合情况下的力学性能变化规律.结果表明,随着隔离层中Si3N4含量的提高,基体片层之间的结合力不断增强.在结合力很强时,层状材料具有与块状材料相同的破坏方式,强度出现极值,达到1000 MPa以上;在结合力较弱时,隔离层能够反复偏折裂纹,层状材料表现出高达20 MPa.m1/2的表观断裂韧性和约600 MPa的强度.
黄勇1，谢志鹏1，李金林1，蔡胜有1
(1.清华大学精细陶瓷与工艺国家重点实验室,清华大学材料科学与工程系,北京,100084)
摘要:通过加入Si3N4调节隔离层的性质,研究了Si3N4/BN层状复合材料在不同界面结合情况下的力学性能变化规律.结果表明,随着隔离层中Si3N4含量的提高,基体片层之间的结合力不断增强.在结合力很强时,层状材料具有与块状材料相同的破坏方式,强度出现极值,达到1000 MPa以上;在结合力较弱时,隔离层能够反复偏折裂纹,层状材料表现出高达20 MPa.m1/2的表观断裂韧性和约600 MPa的强度.
关键词:界面; 桥接; 氮化硅; 氮化硼; 层状复合材料;
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