辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究

张林春¹，吴则嘉¹，张毅²，杨晟远¹，刘晓晗¹，陈英颖³

(1.上海维安新材料研究中心有限公司,上海,200082;
2.上海交通大学,材料科学与工程学院,上海,200030;
3.宝山钢铁股份有限公司,技术中心,上海,201900)

摘要:介绍了利用辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜,通过优化辉光光源激发参数、计算标准样品的溅射率,建立了掺杂纳米硅薄膜的定量表面分析方法.方法应用于实际掺杂纳米硅薄膜样品的分析,并将分析深度、剖析结果与表面形貌仪的结果进行了对照.试验结果表明,分析方法快速、准确,具有实际应用价值.

关键词:辉光放电光谱法; 掺杂纳米硅薄膜; 溅射;

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