退火时间对PbS薄膜结构和光学特性的影响

武怡¹，高斐²，刘生忠²，马笑轩¹，王浩石²，宋飞莺²，陈彦伟²

1. 陕西师范大学物理与信息技术学院2. 陕西师范大学材料与工程学院

摘 要：利用化学浴沉积法在玻璃衬底上50℃沉积3h制备硫化铅（PbS）纳米晶薄膜。将得到的PbS薄膜在300℃氮气中进行不同时间（0¹20min）的退火。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）和紫外-可见-近红外分光光度计对PbS薄膜的结构和光学特性进行研究。PbS薄膜在玻璃基底上粘附力较强,结晶度良好,呈面心立方结构且沿（111）方向择优生长。不同的退火时间导致PbS薄膜的结构、形貌、光学特性均产生明显差异。退火30min的PbS薄膜的结晶度最好,其带隙变化范围为0.90¹.70eV。

关键词：PbS薄膜;化学浴沉积;薄膜结构;光学特性;