简介概要

钽片的化学抛光

来源期刊：材料科学与工程学报2000年增刊第1期

论文作者：郑欣熊全明袁宝明

关键词：化学抛光; 表面粗糙度; 纯钽板;

摘要：研究了钽片化学抛光质量的影响因素,并给出了钽片溶解速度与化学抛光液中酸浓度的关系曲线.分析认为钽片产生自钝化必须满足:还原平衡电位远高于维钝电位,微电池的阴极极化电流密度大于致钝电流密度.试验结果表明,抛光温度为40～45℃时,抛光钽片表面形成致密的钝化膜,经轧制后钽片表面达到了镜面光泽.

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郑欣¹，熊全明¹，袁宝明¹

(1.西北有色金属研究院,西安51号信箱,710016)

摘要:研究了钽片化学抛光质量的影响因素,并给出了钽片溶解速度与化学抛光液中酸浓度的关系曲线.分析认为钽片产生自钝化必须满足:还原平衡电位远高于维钝电位,微电池的阴极极化电流密度大于致钝电流密度.试验结果表明,抛光温度为40～45℃时,抛光钽片表面形成致密的钝化膜,经轧制后钽片表面达到了镜面光泽.

关键词:化学抛光; 表面粗糙度; 纯钽板;

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