多晶氧化钨薄膜的制备及其红外反射调制性能研究
来源期刊：无机材料学报2002年第6期
论文作者：胡行方 黄银松 宋力昕 章俞之
关键词：直流反应溅射; 多晶氧化钨薄膜; Raman散射; 红外反射; 发射率;
摘 要：通过工艺参数的优化,采用直流反应溅射工艺成功地制备了具有良好的电化学循环稳定性的多晶氧化钨薄膜.Raman散射光谱研究表明:随着锂离子和电子的共同注入,多晶薄膜中的W6+逐渐被还原为W5+.红外反射测试表明:电子注入薄膜后,成为自由载流子,使得氧化钨薄膜表现出一定的金属特性,具有一定的红外反射调制能力.采用该工艺制备的WO3/ITO/Glass结构的发射率可在0.261～0.589的范围内可逆调节.
胡行方1，黄银松1，宋力昕1，章俞之1
(1.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050)
摘要:通过工艺参数的优化,采用直流反应溅射工艺成功地制备了具有良好的电化学循环稳定性的多晶氧化钨薄膜.Raman散射光谱研究表明:随着锂离子和电子的共同注入,多晶薄膜中的W6+逐渐被还原为W5+.红外反射测试表明:电子注入薄膜后,成为自由载流子,使得氧化钨薄膜表现出一定的金属特性,具有一定的红外反射调制能力.采用该工艺制备的WO3/ITO/Glass结构的发射率可在0.261～0.589的范围内可逆调节.
关键词:直流反应溅射; 多晶氧化钨薄膜; Raman散射; 红外反射; 发射率;
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