双脉冲工作时间对Ni-W-P/CeO2-SiO2纳米复合材料电沉积的影响
来源期刊：材料保护2010年第3期
论文作者：王绍华 徐瑞东 王军丽 章俞之
关键词：双脉冲; Ni-W-P/CeO2-SiO2; 纳米复合材料; 电沉积; 脉冲时间; 沉积速率; 显微硬度; dual pulse; Ni-W-P/CeO2-SiO2; nanocomposite; electrodeposition; microhardness; working time; deposition rate;
摘 要：通过Ni,W,P与CeO2,SiO2纳米颗粒的双脉冲电沉积,在普通碳钢表面制备了Ni-W-P/CeO2-SiO2纳米复合材料沉积层.在正、反向脉冲占空比(10%,30%)和正、反向脉冲平均电流密度(15.0,1.5 A/dm2)恒定下,研究了正、反向脉冲时间对纳米复合材料电沉积的影响.采用能谱、硬度测试和扫描电镜等方法,对纳米复合材料沉积层的化学组成、沉积速率、显微硬度和表面形貌进行了表征.结果表明:当正、反向脉冲时间分别控制在300 ms和40 ms时,Ni-W-P基质金属轮廓清晰,晶粒细小而均匀,CeO2和SiO2纳米颗粒在基质金属中均匀弥散分布;沉积层的化学组成(质量分数)为:70.89%Ni,9.89%W,8.59%P,7.35%CeO2,2.81%SiO2;沉积速率为45.1μm/h,显微硬度为706 HV.
王绍华1，徐瑞东2，王军丽1，章俞之3
(1.昆明理工大学,分析测试研究中心,云南,昆明,650093;
2.昆明理工大学,能源与冶金工程学院,云南,昆明,650093;
3.中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海,200050)
摘要:通过Ni,W,P与CeO2,SiO2纳米颗粒的双脉冲电沉积,在普通碳钢表面制备了Ni-W-P/CeO2-SiO2纳米复合材料沉积层.在正、反向脉冲占空比(10%,30%)和正、反向脉冲平均电流密度(15.0,1.5 A/dm2)恒定下,研究了正、反向脉冲时间对纳米复合材料电沉积的影响.采用能谱、硬度测试和扫描电镜等方法,对纳米复合材料沉积层的化学组成、沉积速率、显微硬度和表面形貌进行了表征.结果表明:当正、反向脉冲时间分别控制在300 ms和40 ms时,Ni-W-P基质金属轮廓清晰,晶粒细小而均匀,CeO2和SiO2纳米颗粒在基质金属中均匀弥散分布;沉积层的化学组成(质量分数)为:70.89%Ni,9.89%W,8.59%P,7.35%CeO2,2.81%SiO2;沉积速率为45.1μm/h,显微硬度为706 HV.
关键词:双脉冲; Ni-W-P/CeO2-SiO2; 纳米复合材料; 电沉积; 脉冲时间; 沉积速率; 显微硬度; dual pulse; Ni-W-P/CeO2-SiO2; nanocomposite; electrodeposition; microhardness; working time; deposition rate;
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