磁控溅射制备TiAlN薄膜组织结构及性能的研究
来源期刊：硬质合金2009年第4期
论文作者：刘波 刘胜利 刘宇
关键词：TiAlN薄膜; 磁控溅射; 组织结构; 性能;
摘 要：本文采用射频磁控溅射法在硬质合金钻头表面制备了TiAlN薄膜.XPS测试表明,膜层的主要成分为金属氮化物,Ti/Al原子个数比约为1:1;XRD分析表明膜层中只出现Ti3AlN的衍射峰,并且在(220)上有明显的择优取向;SEM测试表明所制备的薄膜连续、光滑、组织致密;硬度测试显示薄膜硬度HV最高达到2 465;膜/基界面的结合力经测定为42.12 N.
刘波1，刘胜利1，刘宇2
(1.山东公信安全科技有限公司,山东枣庄,277101;
2.北京科技大学冶金与生态工程学院,北京,100083)
摘要:本文采用射频磁控溅射法在硬质合金钻头表面制备了TiAlN薄膜.XPS测试表明,膜层的主要成分为金属氮化物,Ti/Al原子个数比约为1:1;XRD分析表明膜层中只出现Ti3AlN的衍射峰,并且在(220)上有明显的择优取向;SEM测试表明所制备的薄膜连续、光滑、组织致密;硬度测试显示薄膜硬度HV最高达到2 465;膜/基界面的结合力经测定为42.12 N.
关键词:TiAlN薄膜; 磁控溅射; 组织结构; 性能;
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