光电化学法研究316L不锈钢在高温水中生成氧化膜的半导体性质
来源期刊：中国腐蚀与防护学报2013年第6期
论文作者：檀玉 梁可心 张胜寒
文章页码：491 - 495
关键词：光电化学响应;316L不锈钢;氧化膜;半导体性质;高温水;
摘 要：采用光电化学响应法研究了316LSS在288℃高温水中形成的氧化膜的半导体性质,获得3个主要响应:带隙宽度2.3 eV认为是Fe氧化物Fe2O3和/或Ni的氢氧化物Ni（OH）2的特征带隙宽度;2.9和3.5 eV认为是Cr氧化物Cr2O3的特征带隙宽度;4.14.4 eV认为是Fex Ni1-x Cr2O4的特征带隙宽度。通过光电流响应与施加偏压的实验可知,316LSS在此高温水中生成的氧化膜表现为n型半导体性质。
檀玉，梁可心，张胜寒
华北电力大学环境科学与工程学院
摘 要：采用光电化学响应法研究了316LSS在288℃高温水中形成的氧化膜的半导体性质,获得3个主要响应:带隙宽度2.3 eV认为是Fe氧化物Fe2O3和/或Ni的氢氧化物Ni（OH）2的特征带隙宽度;2.9和3.5 eV认为是Cr氧化物Cr2O3的特征带隙宽度;4.14.4 eV认为是Fex Ni1-x Cr2O4的特征带隙宽度。通过光电流响应与施加偏压的实验可知,316LSS在此高温水中生成的氧化膜表现为n型半导体性质。
关键词：光电化学响应;316L不锈钢;氧化膜;半导体性质;高温水;
