氮离子束轰击对电弧离子镀TiN膜层的作用
来源期刊：材料保护2009年第2期
论文作者：吕树国 张罡 刘常升 毕监智 金光 李玉海
关键词：氮离子束; 轰击; 电弧离子镀; TiN膜; 显微硬度;
摘 要：电弧离子镀膜层中"大颗粒"的存在,降低了膜层质量,限制了其进一步应用.采用俄罗斯UVN 0.5D2I离子束辅助沉积电弧离子镀设备,对高速钢W18Cr4V上沉积的TiN膜层进行了氮离子束轰击.结果表明:TiN膜层表面"大颗粒"完全消失,凹坑浅而平整,粗糙度降低.膜层中较软的Ti和Ti2N向TiN转变,TiN(111)取向逐渐减弱,而(200)取向逐渐增强.膜层的显微硬度由原来的1 980 HV1N升高到2 310HV1N.
吕树国1，张罡2，刘常升1，毕监智2，金光2，李玉海2
(1.东北大学材料与冶金学院,辽宁,沈阳,110004;
2.沈阳理工大学中俄联合高能束流实验室,辽宁,沈阳,110168)
摘要:电弧离子镀膜层中"大颗粒"的存在,降低了膜层质量,限制了其进一步应用.采用俄罗斯UVN 0.5D2I离子束辅助沉积电弧离子镀设备,对高速钢W18Cr4V上沉积的TiN膜层进行了氮离子束轰击.结果表明:TiN膜层表面"大颗粒"完全消失,凹坑浅而平整,粗糙度降低.膜层中较软的Ti和Ti2N向TiN转变,TiN(111)取向逐渐减弱,而(200)取向逐渐增强.膜层的显微硬度由原来的1 980 HV1N升高到2 310HV1N.
关键词:氮离子束; 轰击; 电弧离子镀; TiN膜; 显微硬度;
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