Al颗粒尺寸对γ’/γ复合涂层结构及氧化性能影响
来源期刊:材料热处理学报2012年第11期
论文作者:杨秀英 王珺
文章页码:137 - 142
关键词:电沉积+热处理;Ni-Al;复合涂层;颗粒尺寸;氧化;
摘 要:采用Ni-Al共沉积与真空热处理复合技术,即不同颗粒Al(平均尺寸85 nm,3μm)与Ni电沉积,然后进行600℃×4 h低温真空热处理,制备γ’/γ结构Ni-Al纳米复合涂层(A-ENC)及微米复合涂层(A-EMC)。与A-EMC相比,A-ENC基体晶粒尺寸更细小,且γ相中溶入更多的Al。1000℃×20 h高温氧化实验表明:A-ENC的氧化速率远低于A-EMC的,这是由于Al颗粒尺寸的不同,使得纳米颗粒复合转化的γ’/γ涂层氧化初期形成的Al2O3晶核间距大大地缩短,进而缩短Al2O3晶核的间距,从而大大减少了Al2O3核横向生长互相连接成连续Al2O3膜所需要的时间。
杨秀英1,2,王珺3
1. 沈阳理工大学应用技术学院2. 中国科学院金属研究所金属腐蚀与(防护国家重点实验室3. 东北特殊钢股份有限公司
摘 要:采用Ni-Al共沉积与真空热处理复合技术,即不同颗粒Al(平均尺寸85 nm,3μm)与Ni电沉积,然后进行600℃×4 h低温真空热处理,制备γ’/γ结构Ni-Al纳米复合涂层(A-ENC)及微米复合涂层(A-EMC)。与A-EMC相比,A-ENC基体晶粒尺寸更细小,且γ相中溶入更多的Al。1000℃×20 h高温氧化实验表明:A-ENC的氧化速率远低于A-EMC的,这是由于Al颗粒尺寸的不同,使得纳米颗粒复合转化的γ’/γ涂层氧化初期形成的Al2O3晶核间距大大地缩短,进而缩短Al2O3晶核的间距,从而大大减少了Al2O3核横向生长互相连接成连续Al2O3膜所需要的时间。
关键词:电沉积+热处理;Ni-Al;复合涂层;颗粒尺寸;氧化;