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溅射氩气压对射频磁控溅射制备ZnO∶Al薄膜性能的影响

来源期刊:功能材料2015年第7期

论文作者:刘超英 陈玮 徐志伟 付静 左岩 马眷荣

文章页码:7052 - 7055

关键词:氩气压力;射频磁控溅射;AZO薄膜;光电性能;

摘    要:采用磁控溅射方法在玻璃衬底上使用掺杂3%(质量分数)Al2O3的ZnO陶瓷靶材制备出了掺铝氧化锌(ZnO∶Al,AZO)透明导电薄膜。分别用XRD、SEM、四探针测试仪、紫外-可见分光光度计对薄膜的性能进行了表征和分析。研究了溅射过程中不同氩气压强(0.31.2Pa)对薄膜结构、形貌及光电性能的影响。XRD测试结果表明,所制备的薄膜均具有呈c轴择优取向的纤锌矿结构。当氩气压强为0.3Pa时,AZO薄膜的电阻率最低为6.72×10-4Ω·cm。所有样品在可见光波段的平均透过率超过85%。

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溅射氩气压对射频磁控溅射制备ZnO∶Al薄膜性能的影响

刘超英1,2,3,陈玮1,2,徐志伟1,2,付静1,3,左岩1,2,马眷荣1

1. 中国建筑材料科学研究总院3. 绿色建筑材料国家重点实验室

摘 要:采用磁控溅射方法在玻璃衬底上使用掺杂3%(质量分数)Al2O3的ZnO陶瓷靶材制备出了掺铝氧化锌(ZnO∶Al,AZO)透明导电薄膜。分别用XRD、SEM、四探针测试仪、紫外-可见分光光度计对薄膜的性能进行了表征和分析。研究了溅射过程中不同氩气压强(0.31.2Pa)对薄膜结构、形貌及光电性能的影响。XRD测试结果表明,所制备的薄膜均具有呈c轴择优取向的纤锌矿结构。当氩气压强为0.3Pa时,AZO薄膜的电阻率最低为6.72×10-4Ω·cm。所有样品在可见光波段的平均透过率超过85%。

关键词:氩气压力;射频磁控溅射;AZO薄膜;光电性能;

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