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OLEDs中CuPc缓冲层作用的AFM与XPS研究

来源期刊：功能材料与器件学报2006年第2期

论文作者：桂文明王方聪张福甲欧谷平齐丙丽宋珍

关键词：缓冲层CuPc; 原子力显微镜(AFM); X射线光电子能谱(XPS);

摘要：利用AFM对CuPc/ITO样品表面进行扫描,发现其生长较均匀,基本上覆盖了ITO表面的缺陷,且针孔较少.通过样品表面和界面的XPS谱图分析,进一步证实了这一结果,同时发现,CuPc可以抑制ITO中的化学组分向空穴传输层的扩散.有利于器件的性能的改善和寿命的提高.

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桂文明¹，王方聪¹，张福甲¹，欧谷平¹，齐丙丽¹，宋珍²

(1.兰州大学物理系,兰州,730000;
2.北京机械工业学院基础部,北京,100085)

摘要:利用AFM对CuPc/ITO样品表面进行扫描,发现其生长较均匀,基本上覆盖了ITO表面的缺陷,且针孔较少.通过样品表面和界面的XPS谱图分析,进一步证实了这一结果,同时发现,CuPc可以抑制ITO中的化学组分向空穴传输层的扩散.有利于器件的性能的改善和寿命的提高.

关键词:缓冲层CuPc; 原子力显微镜(AFM); X射线光电子能谱(XPS);

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