纳米晶Ti表面磁控溅射SiC薄膜在高载荷下的摩擦磨损性能

来源期刊：稀有金属材料与工程2012年第S2期

论文作者：盛新兰 许晓静 张体峰 刘敏

文章页码：722 - 725

关键词：纳米晶体钛基材;磁控溅射;薄膜;摩擦磨损;

摘    要：采用室温磁控溅射技术在纳米晶体钛（剧烈塑性变形制备）表面制备出碳化硅（SiC）薄膜,研究了SiC薄膜在高载荷下的摩擦磨损性能。结果表明:在1000g载荷（Hertzian接触应力约为1170MPa）、室温、Kokubo人体模拟体液条件下,与氮化硅（Si3N4）球（半径为2mm）对摩时,SiC薄膜具有良好的耐摩擦磨损性能,其摩擦系数约为0.184,磨损速率为4.18×10-6mm3·m-1N-1,磨损表面未出现薄膜剥落现象。本SiC薄膜在高载荷下所表现出的良好耐摩擦磨损性能是由于其膜-基之间具有好的弹性模量匹配、薄膜自身具有高的塑性、薄膜与基材的硬度都较低（有助于降低摩擦磨损时的实际接触应力）,薄膜自身具有较高的硬度与弹性模量的比值。