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中频磁控溅射制备类金刚石薄膜的功率因素研究

来源期刊:稀有金属材料与工程2009年增刊第2期

论文作者:付志强 陈新春 邬苏东 杨义勇 彭志坚 王成彪

关键词:中频磁控溅射; 类金刚石薄膜; 摩擦磨损性能; mid-frequency magnetron sputtering; diamond-like carbon films; friction properties;

摘    要:采用SP0806AS中频磁控溅射镀膜机,在硅(100)和高速钢基体上,采用双石墨靶在不同功率下沉积了类金刚石薄膜.研究表明,在功率为5~7 kW下薄膜具有较低的ID/IG比;所得薄膜表面平整,粗糙度Ra值在1.5~2.8 nm之间,薄膜厚度随功率增加而增大;在100~200 nm Ti膜作为过渡层条件下,薄膜纳米硬度和弹性模量随功率增加呈先增大后减小趋势,硬度/杨氏模量比值先增大后减小,当功率为7 kW时具有较高值;划痕实验临界载荷随功率增加先增大后减小,最大可大于50 N;薄膜的摩擦系数较小,平均摩擦系数可小于0.15;在50 g载荷下,薄膜磨穿的时间超过300 min.确定SP0806AS中频磁控溅射镀膜机沉积类金刚石薄膜的最佳功率范围是5~7 kW.

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中频磁控溅射制备类金刚石薄膜的功率因素研究

付志强1,陈新春1,邬苏东1,杨义勇1,彭志坚1,王成彪1

(1.中国地质大学,北京,100083)

摘要:采用SP0806AS中频磁控溅射镀膜机,在硅(100)和高速钢基体上,采用双石墨靶在不同功率下沉积了类金刚石薄膜.研究表明,在功率为5~7 kW下薄膜具有较低的ID/IG比;所得薄膜表面平整,粗糙度Ra值在1.5~2.8 nm之间,薄膜厚度随功率增加而增大;在100~200 nm Ti膜作为过渡层条件下,薄膜纳米硬度和弹性模量随功率增加呈先增大后减小趋势,硬度/杨氏模量比值先增大后减小,当功率为7 kW时具有较高值;划痕实验临界载荷随功率增加先增大后减小,最大可大于50 N;薄膜的摩擦系数较小,平均摩擦系数可小于0.15;在50 g载荷下,薄膜磨穿的时间超过300 min.确定SP0806AS中频磁控溅射镀膜机沉积类金刚石薄膜的最佳功率范围是5~7 kW.

关键词:中频磁控溅射; 类金刚石薄膜; 摩擦磨损性能; mid-frequency magnetron sputtering; diamond-like carbon films; friction properties;

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