配位沉淀-直接还原法制备球形超细镍粉
来源期刊：矿冶工程2006年第6期
论文作者：湛菁 李铁晶 邬建辉 张传福
关键词：配位沉淀; 前驱体; 直接还原; 球形超细镍粉;
摘 要：以碳酸氢铵为沉淀剂、氯化镍为原料、氨为配位剂,用配位沉淀法制备球形镍粉前驱体沉淀,再于氢还原气氛中直接还原前驱体制备球形超细镍粉.系统地研究了前驱体制备过程中反应物浓度、pH值、添加剂、温度和直接还原过程中反应温度、还原气氛对镍粉形貌及粒度的影响.实验结果表明:在Ni2+浓度为0.8 mol/L,pH值为7.5,反应温度为室温,添加剂PVP添加量为1%的条件下可制备出类球形、形状较规则、分散性好的镍粉前驱体;将球形的、分散性好的前驱体粉末在350～400 ℃的N2和H2混合气氛中进行还原即可得到分散性好、纯度高的超细金属镍粉.
湛菁1，李铁晶1，邬建辉1，张传福1
(1.中南大学,冶金科学与工程学院,湖南,长沙,410083)
摘要:以碳酸氢铵为沉淀剂、氯化镍为原料、氨为配位剂,用配位沉淀法制备球形镍粉前驱体沉淀,再于氢还原气氛中直接还原前驱体制备球形超细镍粉.系统地研究了前驱体制备过程中反应物浓度、pH值、添加剂、温度和直接还原过程中反应温度、还原气氛对镍粉形貌及粒度的影响.实验结果表明:在Ni2+浓度为0.8 mol/L,pH值为7.5,反应温度为室温,添加剂PVP添加量为1%的条件下可制备出类球形、形状较规则、分散性好的镍粉前驱体;将球形的、分散性好的前驱体粉末在350～400 ℃的N2和H2混合气氛中进行还原即可得到分散性好、纯度高的超细金属镍粉.
关键词:配位沉淀; 前驱体; 直接还原; 球形超细镍粉;
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