高速喷射电沉积块体纳米晶C0-Ni合金
来源期刊：材料热处理学报2004年第1期
论文作者：韩东升 王艳 高明 荆天辅 乔桂英 高聿为
关键词：高速喷射电沉积; 块体纳米晶Co-Ni合金; 沉积速率; 微观结构;
摘 要：采用自制的高速喷射电沉积装置制备了块体纳米晶Co-Ni合金,利用SEM、TEM、XRD及EDS等方法研究了电流密度对沉积速率、电流效率及Co-Ni合金沉积层组织结构的影响,并与槽镀沉积层进行了对比.结果表明:采用该方法后允许使用的极限电流密度、沉积速率及电流效率均显著增大,沉积速率高达47.33μm/min,是一般槽镀的90倍左右.随着电流密度的增加,沉积速率呈近似线性增加,但电流效率增大到一定值后基本不变.电流密度对沉积层成分影响不大,但明显减小沉积层的晶粒尺寸.与一般槽镀相比,晶粒尺寸由23.07nm减小到9.18nm.
韩东升1，王艳1，高明1，荆天辅1，乔桂英1，高聿为1
(1.燕山大学,材料科学与工程学院,河北,秦皇岛,066004)
摘要:采用自制的高速喷射电沉积装置制备了块体纳米晶Co-Ni合金,利用SEM、TEM、XRD及EDS等方法研究了电流密度对沉积速率、电流效率及Co-Ni合金沉积层组织结构的影响,并与槽镀沉积层进行了对比.结果表明:采用该方法后允许使用的极限电流密度、沉积速率及电流效率均显著增大,沉积速率高达47.33μm/min,是一般槽镀的90倍左右.随着电流密度的增加,沉积速率呈近似线性增加,但电流效率增大到一定值后基本不变.电流密度对沉积层成分影响不大,但明显减小沉积层的晶粒尺寸.与一般槽镀相比,晶粒尺寸由23.07nm减小到9.18nm.
关键词:高速喷射电沉积; 块体纳米晶Co-Ni合金; 沉积速率; 微观结构;
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