CdGeAs₂晶体的表面XPS表征及表面损伤层测定（英文）

来源期刊：稀有金属材料与工程2015年第4期

论文作者：李佳伟 朱世富 朱世富 何知宇 陈宝军

文章页码：844 - 847

关键词：非线性材料;CdGeAs2;XPS;XRD回摆曲线;表面损伤层;

摘    要：采用改进的布里奇曼法生长出尺寸为Φ15 mm×45 mm,外观完整无开裂的Cd Ge As2单晶体。为了提高器件的使用性能,需要对晶体进行表面处理,主要对Cd Ge As2晶片表面的抛光技术进行了研究。通过对解理面切割分析得到(101)晶面,机械抛光后进行了XPS分析。对该晶面采用溴甲醇溶液进行腐蚀抛光,采用XRD回摆及光学显微镜对不同抛光时间的试样进行观测。结果表明,CGA晶体的(101)晶面在常温下采用溴甲醇溶液腐蚀50 s后,晶片表面光滑无划痕,并且具有半峰宽较小的回摆曲线,同时计算得到Cd Ge As2晶体的表面损伤层厚度。