表面光电压法研究抛光硅片制造中铁沾污的来源
来源期刊：材料科学与工程学报2001年第1期
论文作者：黄宜平 张锦心 罗俊一 包宗明 李刚 沈益军 刘培东
关键词：表面光电压法; 铁杂质; 抛光硅片;
摘 要：铁杂质是硅片制造过程中常见的重金属沾污，表面光电压(SPV)法可很好地用于测定P型硅中铁杂质。本文通过SPV法测试不同流程制造的P型抛光硅片中的铁沾污，找到了在P型抛光硅片制造工艺过程中引入铁沾污的主要来源。
黄宜平1，张锦心2，罗俊一3，包宗明1，李刚2，沈益军2，刘培东2
(1.复旦大学电子工程系,;
2.浙江海纳半导体有限公司,;
3.复旦大学电子工程系,上海先进半导体有限公司,)
摘要:铁杂质是硅片制造过程中常见的重金属沾污，表面光电压(SPV)法可很好地用于测定P型硅中铁杂质。本文通过SPV法测试不同流程制造的P型抛光硅片中的铁沾污，找到了在P型抛光硅片制造工艺过程中引入铁沾污的主要来源。
关键词:表面光电压法; 铁杂质; 抛光硅片;
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