简介概要

粉体纯化装置及工艺研究

来源期刊：稀有金属材料与工程2005年第10期

论文作者：许淑慧尹盛苏睿陶甫廷陈正强陈文辉罗文广王敬义吴京波冯信华

关键词：等离子体纯化; 纯化反应; 表面刻蚀;

摘要：根据硅粉纯化的要求,提供了一种长落程和高反应速率的冷等离体反应器.工艺参数的选择着重于增大鞘层厚度、提高反应粒子浓度和控制抽气速率,因此,能有效的提高纯化反应的速率、粉料的回收率和粉粒一次沉降的时间.实验结果表明:该设备能将纯度为99%的工业硅纯化为约99.99%的太阳级硅.

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许淑慧¹，尹盛²，苏睿¹，陶甫廷¹，陈正强¹，陈文辉¹，罗文广¹，王敬义²，吴京波³，冯信华²

(1.广西工学院,广西,柳州,545006;
2.华中科技大学,湖北,武汉,430074;
3.湖南长沙万全科技开发有限公司,湖南,长沙,410007)

摘要:根据硅粉纯化的要求,提供了一种长落程和高反应速率的冷等离体反应器.工艺参数的选择着重于增大鞘层厚度、提高反应粒子浓度和控制抽气速率,因此,能有效的提高纯化反应的速率、粉料的回收率和粉粒一次沉降的时间.实验结果表明:该设备能将纯度为99%的工业硅纯化为约99.99%的太阳级硅.

关键词:等离子体纯化; 纯化反应; 表面刻蚀;

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