工艺条件对蓝宝石化学机械抛光的影响

来源期刊：功能材料与器件学报2010年第3期

论文作者：汪海波 俞沁聪 刘卫丽 宋志棠 张楷亮

文章页码：206 - 210

关键词：蓝宝石;化学机械抛光(CMP);二氧化硅;pH值;Heresy系数;

摘    要：系统研究了抛光液的pH值、抛光压力和相对转速等因素对蓝宝石抛光速率和表面粗糙度的影响,研究结果表明:随pH值（9-12）的升高,抛光速率增加,表面粗糙度先降低后升高;随抛光压力和相对转速的增加,抛光速率先增加后降低,表面粗糙度先降低后升高。研究分析认为:pH值因影响在蓝宝石表面形成的水化层从而影响抛光速率和粗糙度;与抛光压力和相对转速相关的Hersey系数对抛光效果影响很大,当Hersey系数为24时,蓝宝石的抛光速率和表面平整度均达到最佳。