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金属的光电化学方法防腐蚀原理及研究进展

来源期刊:中国腐蚀与防护学报2006年第3期

论文作者:程小芳 刘东坡 冷文华 张鉴清

关键词:光电化学; 半导体; 阴极保护; 腐蚀;

摘    要:自上世纪70年代以来,半导体特别是TiO2光电催化反应在诸多领域应用引起了广泛研究.近年来研究表明它可用于金属的阴极保护.文中对金属的光电化学方法防腐蚀的化学原理及研究现状进行了简要介绍.

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金属的光电化学方法防腐蚀原理及研究进展

程小芳1,刘东坡1,冷文华1,张鉴清1

(1.浙江大学化学系,杭州,310027;
2.金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016)

摘要:自上世纪70年代以来,半导体特别是TiO2光电催化反应在诸多领域应用引起了广泛研究.近年来研究表明它可用于金属的阴极保护.文中对金属的光电化学方法防腐蚀的化学原理及研究现状进行了简要介绍.

关键词:光电化学; 半导体; 阴极保护; 腐蚀;

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