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化学气相沉积法制备Ta2O5薄膜的研究进展

来源期刊：功能材料2006年第4期

论文作者：黄伯云闫志巧肖鹏熊翔

关键词：化学气相沉积; Ta2O5; 薄膜; 五卤化钽; 金属有机化合物;

摘要：Ta2O5是重要的介电材料和光波导材料.从前驱体的选择方面综述了化学气相沉积法制备Ta2O5薄膜的研究进展,说明了五卤化钽和Ta金属有机化合物对CVD过程的影响,对这两类前驱体的优缺点进行了比较和评述,讨论了Ta2O5的生成机理,并对其发展方向作了简要的展望.

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黄伯云¹，闫志巧¹，肖鹏¹，熊翔¹

(1.中南大学,粉末冶金国家重点实验室,湖南,长沙,410083)

摘要:Ta2O5是重要的介电材料和光波导材料.从前驱体的选择方面综述了化学气相沉积法制备Ta2O5薄膜的研究进展,说明了五卤化钽和Ta金属有机化合物对CVD过程的影响,对这两类前驱体的优缺点进行了比较和评述,讨论了Ta2O5的生成机理,并对其发展方向作了简要的展望.

关键词:化学气相沉积; Ta2O5; 薄膜; 五卤化钽; 金属有机化合物;

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