简介概要

论位错的稳定存在

来源期刊:稀有金属材料与工程2002年第2期

论文作者:程开甲 程漱玉

关键词:位错; Thomas-Fermi-Dirac-Cheng; 极限尺寸;

摘    要:阐述了Thomas-Fermi-Dirac-Cheng电子理论的位错形成机制. 通过对系统总能量的分析提出了位错能够存在的判据, 计算给出多种单质材料位错存在的极限尺寸值.

详情信息展示

论位错的稳定存在

程开甲1,程漱玉1

(1.西北核技术研究所,陕西,西安,710024)

摘要:阐述了Thomas-Fermi-Dirac-Cheng电子理论的位错形成机制. 通过对系统总能量的分析提出了位错能够存在的判据, 计算给出多种单质材料位错存在的极限尺寸值.

关键词:位错; Thomas-Fermi-Dirac-Cheng; 极限尺寸;

【全文内容正在添加中】

<上一页 1 下一页 >

有色金属在线官网  |   会议  |   在线投稿  |   购买纸书  |   科技图书馆

中南大学出版社 技术支持 版权声明   电话:0731-88830515 88830516   传真:0731-88710482   Email:administrator@cnnmol.com

互联网出版许可证:(署)网出证(京)字第342号   京ICP备17050991号-6      京公网安备11010802042557号