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共轭链含偶氮苯聚噻吩衍生物的合成及光电性能

来源期刊:高分子材料科学与工程2013年第5期

论文作者:刘福德 乌海燕 王娟 周勇 王庆秀

文章页码:21 - 24

关键词:4,4′-二溴偶氮苯;4,4′-二(2-噻吩基)偶氮苯;聚噻吩衍生物;

摘    要:以对乙酰胺基苯胺为原料合成4,4′-二氨基偶氮苯,进一步经重氮化、Sandmeyer反应得到4,4′-二溴偶氮苯,再经Suzuki偶联反应得到4,4′-二(2-噻吩基)偶氮苯,利用红外光谱(IR)和核磁共振谱对各产物进行了表征。采用FeCl3氧化聚合成得到聚4,4′-二(2-噻吩基)偶氮苯,并测定其UV-Vis吸收光谱、溶液及固体荧光光谱、循环伏安曲线及光致发光光谱,得到该聚合物光学带隙Eg为2.14eV,电化学带隙为2.06 eV,EHOMO为-5.56 eV,ELUMO为-3.50 eV。

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共轭链含偶氮苯聚噻吩衍生物的合成及光电性能

刘福德,乌海燕,王娟,周勇,王庆秀

天津理工大学化学化工学院

摘 要:以对乙酰胺基苯胺为原料合成4,4′-二氨基偶氮苯,进一步经重氮化、Sandmeyer反应得到4,4′-二溴偶氮苯,再经Suzuki偶联反应得到4,4′-二(2-噻吩基)偶氮苯,利用红外光谱(IR)和核磁共振谱对各产物进行了表征。采用FeCl3氧化聚合成得到聚4,4′-二(2-噻吩基)偶氮苯,并测定其UV-Vis吸收光谱、溶液及固体荧光光谱、循环伏安曲线及光致发光光谱,得到该聚合物光学带隙Eg为2.14eV,电化学带隙为2.06 eV,EHOMO为-5.56 eV,ELUMO为-3.50 eV。

关键词:4,4′-二溴偶氮苯;4,4′-二(2-噻吩基)偶氮苯;聚噻吩衍生物;

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