铜粉表面包覆硅烷偶联剂改性研究
来源期刊:腐蚀与防护2006年第2期
论文作者:陆瑞卿 何益艳 范修涛 杜仕国
关键词:铜粉; 硅烷偶联剂; 包覆;
摘 要:用红外光谱分析技术研究硅烷偶联剂在铜粉表面的接枝情况,对涂层的导电性能进行测试,确定了偶联剂的处理工艺.实验表明,硅烷偶联剂可以很好地在铜粉表面形成包覆层,直接添加偶联剂比预处理效果要好.
陆瑞卿1,何益艳1,范修涛2,杜仕国1
(1.军械工程学院三系,石家庄,050003;
2.长沙军代局驻永州军代室,永州,425000)
摘要:用红外光谱分析技术研究硅烷偶联剂在铜粉表面的接枝情况,对涂层的导电性能进行测试,确定了偶联剂的处理工艺.实验表明,硅烷偶联剂可以很好地在铜粉表面形成包覆层,直接添加偶联剂比预处理效果要好.
关键词:铜粉; 硅烷偶联剂; 包覆;
【全文内容正在添加中】