简介概要

铜粉表面包覆硅烷偶联剂改性研究

来源期刊:腐蚀与防护2006年第2期

论文作者:陆瑞卿 何益艳 范修涛 杜仕国

关键词:铜粉; 硅烷偶联剂; 包覆;

摘    要:用红外光谱分析技术研究硅烷偶联剂在铜粉表面的接枝情况,对涂层的导电性能进行测试,确定了偶联剂的处理工艺.实验表明,硅烷偶联剂可以很好地在铜粉表面形成包覆层,直接添加偶联剂比预处理效果要好.

详情信息展示

铜粉表面包覆硅烷偶联剂改性研究

陆瑞卿1,何益艳1,范修涛2,杜仕国1

(1.军械工程学院三系,石家庄,050003;
2.长沙军代局驻永州军代室,永州,425000)

摘要:用红外光谱分析技术研究硅烷偶联剂在铜粉表面的接枝情况,对涂层的导电性能进行测试,确定了偶联剂的处理工艺.实验表明,硅烷偶联剂可以很好地在铜粉表面形成包覆层,直接添加偶联剂比预处理效果要好.

关键词:铜粉; 硅烷偶联剂; 包覆;

【全文内容正在添加中】

<上一页 1 下一页 >

相关论文

  • 暂无!

相关知识点

  • 暂无!

有色金属在线官网  |   会议  |   在线投稿  |   购买纸书  |   科技图书馆

中南大学出版社 技术支持 版权声明   电话:0731-88830515 88830516   传真:0731-88710482   Email:administrator@cnnmol.com

互联网出版许可证:(署)网出证(京)字第342号   京ICP备17050991号-6      京公网安备11010802042557号