铁氰化钾化学发光体系测定利福平的研究
来源期刊：分析试验室2003年第2期
论文作者：张琰图 杨维平 章竹君 田穗康
文章页码：33 - 35
关键词：化学发光;利福平;流动注射;铁氰化钾;
摘 要：基于在NaOH碱性介质中 ,铁氰化钾可以直接氧化利福平产生化学发光这一现象 ,结合流动注射分析技术 ,提出了一种直接利用化学发光测定利福平的新方法。该方法测定利福平的线性范围为 0 .1～ 30mg/L ,检出限为 0 .0 6mg/L ,相对标准偏差为 3.0 % (n =1 1 ,ρ(利福平 ) =1 .5mg/L) ,方法已成功地用于胶囊及滴眼液利福平样品的分析
张琰图，杨维平，章竹君，田穗康
摘 要：基于在NaOH碱性介质中 ,铁氰化钾可以直接氧化利福平产生化学发光这一现象 ,结合流动注射分析技术 ,提出了一种直接利用化学发光测定利福平的新方法。该方法测定利福平的线性范围为 0 .1～ 30mg/L ,检出限为 0 .0 6mg/L ,相对标准偏差为 3.0 % (n =1 1 ,ρ(利福平 ) =1 .5mg/L) ,方法已成功地用于胶囊及滴眼液利福平样品的分析
关键词：化学发光;利福平;流动注射;铁氰化钾;
