SiO2缓冲层对柔性ITO薄膜特性的影响
来源期刊:稀有金属材料与工程2009年第3期
论文作者:薛唯 李玉琼 喻志农 相龙锋
关键词:离子辅助蒸发技术; ITO薄膜; 二氧化硅缓冲层;
摘 要:利用离子辅助蒸发技术在PET塑料衬底上制备柔性ITO薄膜,重点分析了柔性ITO薄膜在增加SiO2缓冲层前后的性能变化.采用X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测量仪、NT100光学轮廓仪等测试手段对薄膜样品进行表征.实验结果表明:增加缓冲层后,柔性ITO薄膜的X射线衍射特征峰的强度增加;薄膜电阻率减小为1.21×10-3Ω·cm;可见光峰值透过率为85%左右;表面相对光滑;薄膜电阻在一定的弯曲状态保持一定的稳定性.
薛唯1,李玉琼1,喻志农1,相龙锋1
(1.北京理工大学,北京,100081)
摘要:利用离子辅助蒸发技术在PET塑料衬底上制备柔性ITO薄膜,重点分析了柔性ITO薄膜在增加SiO2缓冲层前后的性能变化.采用X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测量仪、NT100光学轮廓仪等测试手段对薄膜样品进行表征.实验结果表明:增加缓冲层后,柔性ITO薄膜的X射线衍射特征峰的强度增加;薄膜电阻率减小为1.21×10-3Ω·cm;可见光峰值透过率为85%左右;表面相对光滑;薄膜电阻在一定的弯曲状态保持一定的稳定性.
关键词:离子辅助蒸发技术; ITO薄膜; 二氧化硅缓冲层;
【全文内容正在添加中】