TMA对熔融盐中铝镀层结构及耐蚀性的影响
来源期刊：中国腐蚀与防护学报2009年第5期
论文作者：陈建华 李旺兴 王小花 李景威 杨占红 王升威
关键词：四甲基氯化铵; AlCl_3-NaCl-KCl; 熔融盐; 铝镀层; 晶体取向; 耐蚀性; tetramethylammonium chloride; AlCl_3-NaCl-KCl molten salt; aluminum coating; crystal orientation; corrosion resistance;
摘 要：在摩尔比为0.66:0.17:0.17的AlCl_3-NaCl-KCl共融盐中添加表面活化剂四甲基氯化铵(TMA),接通直流电在铁片上获得了Al镀层.用扫描电子显微分析、X射线衍射分析和极化曲线等技术测试镀层的表面形貌、相结构及耐腐蚀性能,并用循环伏安法研究添加TMA对Al电沉积机理的影响.研究表明,添加1.0 mass%TMA时,电镀电流效率高达93.6%;纯氯化物熔盐中所得Al晶粒呈针状,为(200)面高择优取向的面心立方结构,添加TMA后获得的Al晶粒细化且形状不规则,呈无序晶面取向.添加TMA后,Al镀层的点腐蚀电位提高了0.12 V,同时增加了电沉积反应的不可逆程度,利于Al在熔融盐中的电镀.
陈建华1，李旺兴1，王小花2，李景威2，杨占红2，王升威2
(1.中国铝业郑州研究院,郑州,450041;
2.中南大学化学化工学院,长沙,410083)
摘要:在摩尔比为0.66:0.17:0.17的AlCl_3-NaCl-KCl共融盐中添加表面活化剂四甲基氯化铵(TMA),接通直流电在铁片上获得了Al镀层.用扫描电子显微分析、X射线衍射分析和极化曲线等技术测试镀层的表面形貌、相结构及耐腐蚀性能,并用循环伏安法研究添加TMA对Al电沉积机理的影响.研究表明,添加1.0 mass%TMA时,电镀电流效率高达93.6%;纯氯化物熔盐中所得Al晶粒呈针状,为(200)面高择优取向的面心立方结构,添加TMA后获得的Al晶粒细化且形状不规则,呈无序晶面取向.添加TMA后,Al镀层的点腐蚀电位提高了0.12 V,同时增加了电沉积反应的不可逆程度,利于Al在熔融盐中的电镀.
关键词:四甲基氯化铵; AlCl_3-NaCl-KCl; 熔融盐; 铝镀层; 晶体取向; 耐蚀性; tetramethylammonium chloride; AlCl_3-NaCl-KCl molten salt; aluminum coating; crystal orientation; corrosion resistance;
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