硅烷类偶联剂对蓄光性荧光粉的表面处理
来源期刊：材料科学与工艺2004年第3期
论文作者：王华平 王俊杰 张玉梅
关键词：表面处理; 蓄光性荧光粉; 硅烷类偶联剂; 分散;
摘 要：采用硅烷类偶联剂对蓄光性荧光粉YLAG进行了表面处理,并将荧光粉与尼龙66(PA66)进行熔融共混,利用散射式浊度仪、透射电镜、红外光谱、扫描电镜分别研究了表面处理前后荧光粉的沉降性、微观形貌及化学结构的变化,以及荧光粉/聚合物共混体系的形态结构.结果表明,经硅烷偶联剂进行表面处理后,荧光粉与偶联剂有一定键合作用,表面处理后荧光粉的沉降速度明显减小,在PA66中的分散性得以改善.
王华平1，王俊杰1，张玉梅1
(1.东华大学纤维材料改性国家重点实验室,上海,200051)
摘要:采用硅烷类偶联剂对蓄光性荧光粉YLAG进行了表面处理,并将荧光粉与尼龙66(PA66)进行熔融共混,利用散射式浊度仪、透射电镜、红外光谱、扫描电镜分别研究了表面处理前后荧光粉的沉降性、微观形貌及化学结构的变化,以及荧光粉/聚合物共混体系的形态结构.结果表明,经硅烷偶联剂进行表面处理后,荧光粉与偶联剂有一定键合作用,表面处理后荧光粉的沉降速度明显减小,在PA66中的分散性得以改善.
关键词:表面处理; 蓄光性荧光粉; 硅烷类偶联剂; 分散;
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