彩色Si₃N₄陶瓷的金刚石涂层

来源期刊：超硬材料工程2005年第6期

论文作者：M. Belmonte 蒋德伦 蒋修治

文章页码：48 - 52

关键词：金刚石薄膜;氮化硅;等离子体CVD;显微组织;陶瓷基底;

摘    要：分析了S i3N4二次相变化对化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜生长的影响。氮化硅基底是将生坯试样放入S i3N4/BN粉末床内,通过无压烧结而成。经X射线衍射和导热试验证实,烧结气氛的局部变化会导致试样具有不同的灰度和化学物理性能,从而影响金刚石薄膜生长。对薄膜,包括厚度、平均晶粒度、表面粗糙度、织构和附着强度等进行了全面的表征。与玻璃相含量不多的陶瓷基底沉积的金刚石薄膜相比,含有玻璃相的S i3N4基底的薄膜厚度大、晶粒度小、薄膜与基底的附着强度高。