用化学腐蚀制备多孔硅太阳电池减反射膜的研究
来源期刊：材料科学与工程学报2002年第4期
论文作者：杨德仁 马向阳 袁俊 席珍强 谢荣国
关键词：多孔硅; 太阳电池; 减反射膜; 化学腐蚀;
摘 要：采用HF/HNO3溶液化学腐蚀,在硅片上制备减反射效果优良的多孔硅太阳电池减反射膜,借助原子力显微镜(AFM)和X光电子谱(XPS)对其表面形貌和成分进行观察,发现该膜与电化学阳极腐蚀得到的多孔硅具有相似性,其主要成分为非化学配比的硅的氧化物SiOx(X＜2).采用带积分球的光度分光计,测得形成多孔硅减反射膜后,硅片表面反射率大大下降,,在波长330～800nm范围反射率只有1.5～2.9%.研究指出这种强减反射作用,与多孔硅具有合适的折射率及其多孔特性的光陷阱作用有关.
杨德仁1，马向阳1，袁俊1，席珍强1，谢荣国1
(1.浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027)
摘要:采用HF/HNO3溶液化学腐蚀,在硅片上制备减反射效果优良的多孔硅太阳电池减反射膜,借助原子力显微镜(AFM)和X光电子谱(XPS)对其表面形貌和成分进行观察,发现该膜与电化学阳极腐蚀得到的多孔硅具有相似性,其主要成分为非化学配比的硅的氧化物SiOx(X＜2).采用带积分球的光度分光计,测得形成多孔硅减反射膜后,硅片表面反射率大大下降,,在波长330～800nm范围反射率只有1.5～2.9%.研究指出这种强减反射作用,与多孔硅具有合适的折射率及其多孔特性的光陷阱作用有关.
关键词:多孔硅; 太阳电池; 减反射膜; 化学腐蚀;
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