304L不锈钢钝化膜半导体性能研究
来源期刊：腐蚀科学与防护技术2006年第5期
论文作者：李金波 郑茂盛 朱杰武
关键词：电容测量法; 半导体性能; Mott-Schottky曲线; 杂质密度;
摘 要：利用极化曲线、电容测量法和X射线光电子能谱(XPS)研究了304L不锈钢在0.5 mol/L NaHCO3溶液中所形成的钝化膜的半导体性能,同时对影响钝化膜半导体性能的因素进行了讨论.结果表明:在电位小于-0.4 V范围内,膜呈p型半导体特性;当电位处于-0.4 V至0.26 V范围内膜呈n型半导体特性.随着测试频率的降低及成膜电位的负移,Mott-Schottky曲线的斜率减小,表明膜内的杂质密度增加.氯离子的加入使得M-S直线的斜率减小,增加膜内的杂质密度,容易造成点蚀的发生.XPS测试结果表明钝化膜主要由内层的铬氧化物和外层的铁氧化物组成,这与以前的研究结果相一致.
李金波1，郑茂盛1，朱杰武1
(1.西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,西安,710049;
2.西安石油大学,科技处,西安,710061)
摘要:利用极化曲线、电容测量法和X射线光电子能谱(XPS)研究了304L不锈钢在0.5 mol/L NaHCO3溶液中所形成的钝化膜的半导体性能,同时对影响钝化膜半导体性能的因素进行了讨论.结果表明:在电位小于-0.4 V范围内,膜呈p型半导体特性;当电位处于-0.4 V至0.26 V范围内膜呈n型半导体特性.随着测试频率的降低及成膜电位的负移,Mott-Schottky曲线的斜率减小,表明膜内的杂质密度增加.氯离子的加入使得M-S直线的斜率减小,增加膜内的杂质密度,容易造成点蚀的发生.XPS测试结果表明钝化膜主要由内层的铬氧化物和外层的铁氧化物组成,这与以前的研究结果相一致.
关键词:电容测量法; 半导体性能; Mott-Schottky曲线; 杂质密度;
【全文内容正在添加中】
