氮流量比对磁控溅射(CoCrFeNi)N_x高熵合金薄膜的组织和性能的影响

刘晓东¹，谈淑咏²，霍文燚¹，张旭海¹，邵起越¹，方峰¹

1. 东南大学江苏省先进金属材料高技术研究重点实验室2. 南京工程学院材料工程学院

摘 要：采用直流磁控溅射法制备(CoCrFeNi)Nx高熵薄膜,研究了氮流量比对薄膜的力学性能和电磁性能的影响。结果表明,在不同氮流量比条件下制备的(CoCrFeNi)Nx薄膜,都具有致密的组织、简单的FCC结构并呈现(200)择优取向。随着氮流量比从10%提高到30%,薄膜的硬度和弹性模量随之增大,其最大值达到14 GPa和212 GPa;电阻率基本上呈增大的趋势,最大值达到138μΩ?cm;饱和磁化强度和磁导率随之减小,薄膜饱和磁化强度最高为427.43 emu/cm~3。薄膜的矫顽力约为0。

关键词：材料表面与界面;磁控溅射;(CoCrFeNi)Nx;硬度;电阻率;磁性能;