沉积压力对磁控溅射Mg薄膜结构的影响
来源期刊：材料与冶金学报2012年第2期
论文作者：毛飞雄 刘涛 于景坤
文章页码：102 - 214
关键词：磁控溅射;Mg薄膜;沉积压力;
摘 要：采用直流磁控溅射方法在氧化锆固体电解质表面制备了Mg金属薄膜,利用XRD和SEM研究了沉积压力(0.9～2.1 Pa)对薄膜形貌和结构的影响.结果表明:随着沉积压力的提高,薄膜结晶程度逐渐变差,晶粒尺寸减小,表面粗糙度增大;薄膜呈(002)择优生长的柱状晶结构,且随着沉积压力的提高薄膜厚度先增加后减小.
毛飞雄，刘涛，于景坤
东北大学材料与冶金学院
摘 要：采用直流磁控溅射方法在氧化锆固体电解质表面制备了Mg金属薄膜,利用XRD和SEM研究了沉积压力(0.9～2.1 Pa)对薄膜形貌和结构的影响.结果表明:随着沉积压力的提高,薄膜结晶程度逐渐变差,晶粒尺寸减小,表面粗糙度增大;薄膜呈(002)择优生长的柱状晶结构,且随着沉积压力的提高薄膜厚度先增加后减小.
关键词：磁控溅射;Mg薄膜;沉积压力;
