Sm掺杂对Ca_0.4Sr_0.6Bi_4Ti_4O_(15)铁电薄膜性能的影响
来源期刊：稀有金属材料与工程2009年增刊第2期
论文作者：张丰庆 范素华 马建平 车全德 田清波 于冉
关键词：铁电薄膜; 钐掺杂; 取向; ferroelectric film; Sm doping; orientation;
摘 要：利用溶胶凝胶工艺在Pt/TiO_2 /SiO_2 /Si衬底上制备了Ca_0.4Sr_0.6Sm_xBi_4-xTi_4O_(15)铁电薄膜.研究了不同钐掺量对薄膜的显微结构、晶粒取向及铁电性能的影响.结果表明:钐掺杂对钙锶铋钛铁电薄膜既有抑制氧空位所导致的畴钉扎作用,也有抑制晶粒生长发育的作用.当钐掺量x=0.05时薄膜样品晶粒发育较良好,沿a轴择优取向,I_((200))/I_((119))=0.869;样品铁电性能优良,剩余极化强度P_r=10.2 μC/cm~2,矫顽场强度E_c=120 kV/cm.
张丰庆1，范素华1，马建平1，车全德1，田清波1，于冉1
(1.山东建筑大学,山东,济南,250101)
摘要:利用溶胶凝胶工艺在Pt/TiO_2 /SiO_2 /Si衬底上制备了Ca_0.4Sr_0.6Sm_xBi_4-xTi_4O_(15)铁电薄膜.研究了不同钐掺量对薄膜的显微结构、晶粒取向及铁电性能的影响.结果表明:钐掺杂对钙锶铋钛铁电薄膜既有抑制氧空位所导致的畴钉扎作用,也有抑制晶粒生长发育的作用.当钐掺量x=0.05时薄膜样品晶粒发育较良好,沿a轴择优取向,I_((200))/I_((119))=0.869;样品铁电性能优良,剩余极化强度P_r=10.2 μC/cm~2,矫顽场强度E_c=120 kV/cm.
关键词:铁电薄膜; 钐掺杂; 取向; ferroelectric film; Sm doping; orientation;
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