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离子束辅助磁控溅射沉积TiN薄膜的研究

来源期刊：稀有金属材料与工程2002年第3期

论文作者：陈华王学刚黄鹤朱晓东何家文

关键词：薄膜; TiN; 磁控溅射; 结合强度; 磨损;

摘要：利用三离子束辅助沉积设备,以离子束辅助沉积、磁控溅射和离子束辅助磁控溅射几种工艺在GCr15基体上沉积TiN薄膜.实验结果表明:离子束辅助磁控溅射有效地提高了薄膜的硬度、耐磨性和耐蚀性,改善了膜基结合力.

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陈华¹，王学刚¹，黄鹤¹，朱晓东¹，何家文¹

(1.西安交通大学,陕西,西安,710049)

摘要:利用三离子束辅助沉积设备,以离子束辅助沉积、磁控溅射和离子束辅助磁控溅射几种工艺在GCr15基体上沉积TiN薄膜.实验结果表明:离子束辅助磁控溅射有效地提高了薄膜的硬度、耐磨性和耐蚀性,改善了膜基结合力.

关键词:薄膜; TiN; 磁控溅射; 结合强度; 磨损;

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