[101]取向Li掺杂ZnO薄膜光学性能的研究
来源期刊：无机材料学报2007年第2期
论文作者：夏义本 朱兴文 李英伟 陆液 李勇强
关键词：ZnO薄膜; Li掺杂; [101]取向; PL谱;
摘 要：采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了[101]取向的Li:ZnO薄膜,研究了该薄膜的光学性能随热处理温度变化的规律.结果表明,399nm的发光峰是由Li的杂质能级引起;与[002]取向的薄膜相比,未经热处理的[101]薄膜其光学带隙大,且出现了380nm附近的带边发射(NBE)峰;在560～580℃热处理下,其晶胞变小、光学带隙变窄、360nm左右的带间发光峰红移;当热处理温度升至610℃时,薄膜中再次出现380nm的NBE峰.
夏义本1，朱兴文1，李英伟1，陆液1，李勇强1
(1.上海大学材料学院,上海,200072)
摘要:采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了[101]取向的Li:ZnO薄膜,研究了该薄膜的光学性能随热处理温度变化的规律.结果表明,399nm的发光峰是由Li的杂质能级引起;与[002]取向的薄膜相比,未经热处理的[101]薄膜其光学带隙大,且出现了380nm附近的带边发射(NBE)峰;在560～580℃热处理下,其晶胞变小、光学带隙变窄、360nm左右的带间发光峰红移;当热处理温度升至610℃时,薄膜中再次出现380nm的NBE峰.
关键词:ZnO薄膜; Li掺杂; [101]取向; PL谱;
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