生长条件对脉冲激光沉积ZnO薄膜性质的影响
来源期刊：有色金属2007年第3期
论文作者：邓赞红 董伟伟 方晓东 陶汝华 苏清磊
关键词：材料合成与加工工艺; ZnO薄膜; 脉冲激光沉积; 表面形貌; 光致发光;
摘 要：采用脉冲激光沉积法在蓝宝石(001)衬底上沉积ZnO薄膜,研究衬底温度、激光能量和氧气压力对样品结构和表面形貌以及光致发光的影响.X射线衍射(XRD)表明,在沉积温度范围内(600～900℃)所有样品都具有c轴高度择优取向.扫描电镜(SEM)的测试结果表明,激光能量和氧气压力对薄膜表面形貌的影响显著.在所有样品的室温光致发光谱(PL)均观察到单一 的380nm紫外光发射,深能级发射被强烈抑制.
邓赞红1，董伟伟1，方晓东1，陶汝华1，苏清磊1
(1.中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥,230031)
摘要:采用脉冲激光沉积法在蓝宝石(001)衬底上沉积ZnO薄膜,研究衬底温度、激光能量和氧气压力对样品结构和表面形貌以及光致发光的影响.X射线衍射(XRD)表明,在沉积温度范围内(600～900℃)所有样品都具有c轴高度择优取向.扫描电镜(SEM)的测试结果表明,激光能量和氧气压力对薄膜表面形貌的影响显著.在所有样品的室温光致发光谱(PL)均观察到单一 的380nm紫外光发射,深能级发射被强烈抑制.
关键词:材料合成与加工工艺; ZnO薄膜; 脉冲激光沉积; 表面形貌; 光致发光;
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