纳米硅薄膜研究的最新进展
来源期刊：稀有金属1999年第1期
论文作者：彭英才 何宇亮
关键词：纳米硅薄膜; 制备方法; 结构特征; 输运性质; 光学特性;
摘 要：纳米硅薄膜(nc-Si:H) 是一种新型低维人工半导体材料,它具有新颖的结构特征与独特的物理性质.综合评述了这种材料在制备方法、结构特征、输运性质和发光特性等方面的最新研究进展,并指出了今后的发展方向.
摘要：纳米硅薄膜(nc-Si:H) 是一种新型低维人工半导体材料,它具有新颖的结构特征与独特的物理性质.综合评述了这种材料在制备方法、结构特征、输运性质和发光特性等方面的最新研究进展,并指出了今后的发展方向.
关键词：纳米硅薄膜; 制备方法; 结构特征; 输运性质; 光学特性;
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