脉冲偏压对矩形平面大弧源离子镀TiN 膜层性能的影响
来源期刊：材料研究学报2008年第4期
论文作者：魏永强 田修波 林永清 杨士勤 关秉羽 巩春志 于传跃
关键词：无机非金属材料; 离子镀; 矩形靶; 脉冲偏压; 氮化钛; 耐磨性;
摘 要：采用矩形平面大弧源离子镀技术在201奥氏体不锈钢基体表面制备TiN硬质薄膜,研究了脉冲偏压对TiN膜层的表面形貌、相结构、硬度和耐磨性能的影响.结果表明,随着脉冲偏压的增大,薄膜中大颗粒的数目先增加后减少,这是大颗粒受到离子拖曳力和电场力双重作用的结果.存在一个最佳的脉冲偏压,使得制备出的TiN膜层具有较高的I(111)/I(200)比例和较高的耐磨性.脉冲偏压为-300 V时制备的TiN膜层具有最好的综合性能.
魏永强1，田修波1，林永清1，杨士勤1，关秉羽2，巩春志1，于传跃3
(1.哈尔滨工业大学材料学院现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨,150001;
2.沈阳北宇真空设备厂,沈阳,110045;
3.哈尔滨第一工具有限公司,哈尔滨,150020)
摘要:采用矩形平面大弧源离子镀技术在201奥氏体不锈钢基体表面制备TiN硬质薄膜,研究了脉冲偏压对TiN膜层的表面形貌、相结构、硬度和耐磨性能的影响.结果表明,随着脉冲偏压的增大,薄膜中大颗粒的数目先增加后减少,这是大颗粒受到离子拖曳力和电场力双重作用的结果.存在一个最佳的脉冲偏压,使得制备出的TiN膜层具有较高的I(111)/I(200)比例和较高的耐磨性.脉冲偏压为-300 V时制备的TiN膜层具有最好的综合性能.
关键词:无机非金属材料; 离子镀; 矩形靶; 脉冲偏压; 氮化钛; 耐磨性;
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