简介概要

含活性基有机硅氮烷的合成及紫外光固化与热裂解研究

来源期刊:高分子材料科学与工程2006年第2期

论文作者:王生杰 侣庆法 孔杰 刘郁杨 范晓东 张国彬

关键词:有机硅氮烷; 光活性基团; 紫外光固化; 热裂解;

摘    要:通过甲基乙烯基二氯硅烷及甲基氢二氯硅烷氨解并以NH4Cl催化制备了四种含活性基团的有机硅氮烷.对其紫外光(UV)固化性能、机理及热裂解行为进行了研究.结果表明,紫外光可以有效地引发含活性基的有机硅氮烷固化,固化时主要发生N-H、-CH=CH2间的反应;增大低聚物中Si-H含量和硅氮烷的分子量,均可提高其裂解后的陶瓷产率.

详情信息展示

含活性基有机硅氮烷的合成及紫外光固化与热裂解研究

王生杰1,侣庆法1,孔杰1,刘郁杨1,范晓东1,张国彬1

(1.西北工业大学理学院应用化学系,陕西,西安,710072)

摘要:通过甲基乙烯基二氯硅烷及甲基氢二氯硅烷氨解并以NH4Cl催化制备了四种含活性基团的有机硅氮烷.对其紫外光(UV)固化性能、机理及热裂解行为进行了研究.结果表明,紫外光可以有效地引发含活性基的有机硅氮烷固化,固化时主要发生N-H、-CH=CH2间的反应;增大低聚物中Si-H含量和硅氮烷的分子量,均可提高其裂解后的陶瓷产率.

关键词:有机硅氮烷; 光活性基团; 紫外光固化; 热裂解;

【全文内容正在添加中】

<上一页 1 下一页 >

相关论文

  • 暂无!

相关知识点

  • 暂无!

有色金属在线官网  |   会议  |   在线投稿  |   购买纸书  |   科技图书馆

中南大学出版社 技术支持 版权声明   电话:0731-88830515 88830516   传真:0731-88710482   Email:administrator@cnnmol.com

互联网出版许可证:(署)网出证(京)字第342号   京ICP备17050991号-6      京公网安备11010802042557号