简介概要

微分电位溶出法测定水中痕量铜

来源期刊:冶金分析2002年第1期

论文作者:赵纳鹏 张文德

关键词:铜; 微分电位溶出法; 水样;

摘    要:研究了同位镀汞电位溶出法测定铜的最佳分析条件.试验结果表明,在0.0085mol/LH2SO4-HNO3介质中,铜的峰电位为-0.05V,检出限为0.5μg/L,线性范围为2.5~20μg/L.用于环境水质标样、纯净水中铜的测定,结果令人满意.

详情信息展示

微分电位溶出法测定水中痕量铜

赵纳鹏1,张文德2

(1.唐山市质量监督检验研究所,河北唐山,063000;
2.唐山市卫生防疫站,河北唐山,063000)

摘要:研究了同位镀汞电位溶出法测定铜的最佳分析条件.试验结果表明,在0.0085mol/LH2SO4-HNO3介质中,铜的峰电位为-0.05V,检出限为0.5μg/L,线性范围为2.5~20μg/L.用于环境水质标样、纯净水中铜的测定,结果令人满意.

关键词:铜; 微分电位溶出法; 水样;

【全文内容正在添加中】

<上一页 1 下一页 >

相关论文

  • 暂无!

相关知识点

  • 暂无!

有色金属在线官网  |   会议  |   在线投稿  |   购买纸书  |   科技图书馆

中南大学出版社 技术支持 版权声明   电话:0731-88830515 88830516   传真:0731-88710482   Email:administrator@cnnmol.com

互联网出版许可证:(署)网出证(京)字第342号   京ICP备17050991号-6      京公网安备11010802042557号